Властивості низькотемпературного GaAs отриманого методом РФЕ для пристроїв терагерцового діапазону

Автор(и)

DOI:

https://doi.org/10.20535/S0021347024080041

Анотація

У статті представлені результати дослідження особливостей формування високоомного низькотемпературного арсеніду галію методом РФЕ під впливом комплексного легування галієвих розплавів рідкісноземельним елементом диспрозієм та алюмінієм. Електрофізичні властивості епітаксійних шарів досліджували методом Ван дер Пау. Вимірювання проводилися в частотному діапазоні 80-145 ГГц за допомогою квазіоптичної установки на основі векторного аналізатора мережі (VNA) з парою частотних розширювачів, що працюють у діапазоні VDI WR-3.4, що дозволяє вимірювати повні комплексні параметри розсіювання двополюсника. Показано, що при концентраціях диспрозію (3,7-5,0)×10⁻³ ат. % та алюмінію (2,1-3,8)×10⁻⁴ ат. %, формуються високоомні шари GaAs, Al₀.₀₅Ga₀.₉₅As, Al₀.₁Ga₀.₉As зі значеннями питомого опору (3-7)×10⁵ Ω·см. Порівняння досліджених спектрів пропускання-відбивання терагерцового сигналу в частотному діапазоні 80-145 ГГц через епітаксійну структуру GaAs – si GaAs (підкладка) та напівізолюючу підкладку арсеніду галію показало, що вони ідентичні. Низькотемпературна РФЕ, яка базується на одночасному легуванні галієвих розплавів алюмінієм та диспрозієм, може бути використана для формування високоомних шарів арсеніду галію та його твердих розчинів, придатних для застосування у пристроях терагерцового діапазону.

Опубліковано

2025-04-16

Як цитувати

Круковський, С. І., Ваків, М. М., Ящишин, Є. М., Аріков, В. В., Воронько, А. О., Новіков, Д. О., Вербіцький, Д. О., & Кривець, О. І. (2025). Властивості низькотемпературного GaAs отриманого методом РФЕ для пристроїв терагерцового діапазону. Вісті вищих учбових закладів. Радіоелектроніка. https://doi.org/10.20535/S0021347024080041

Номер

Розділ

Оригінальні статті